Aridus II膜去溶雾化系统是专为各种ICP-MS而研制开发，采用CETAC公司最新的第三代膜去溶技术。
提高ⅠCP-MS的灵敏度4~10倍以上
专利的PTFE膜去溶技术，减少了溶剂对ICP-MS的干扰，显著降低氧化物和氢化物水平
模块化的膜去溶设计，拆装和清洗方便
带盖保护的PFA雾化室，避免静电的干扰
大大改善信号的稳定性，即使是如甲醇的有机溶剂
配备可选的Aspire PFA微量雾化器，样品提升量：50、100和200 μL/min三种可选
可与ASX-112FR微量自动进样器相配
减小了 ICP-MS的干扰

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