LSX-213 G2+把固态激光的方便、坚固耐用和 DUV激光的高效烧蚀性能相结合，是半导体、地质、 环境、生物、金属、刑侦等领域固体进样的最佳选择。

LSX-213 G2+系统采用超级稳定的固态激光源和 简洁的操作维护界面，使LSX-213 G2+系统成为 顶级的213nm激光剥蚀系统。无论是分析地质薄 片微米级的原位微区，或快速进样分析，都能够在 LSX-213 G2+系统上完美完成分析任务。如果您 是在寻找一套超高性价比的213nm激光剥蚀系统， 那么LSX-213 G2+将是您最佳选择。

模块化设计，便于维护
激光能量/寿命，同级别最高
精密的样品显微成像系统
最高精度X-Y-Z移动平台
最新的G2操作软件系统
高达5种不同样品池可选
兼容最高冲洗效率的HELEX改进型双气路双体积样品池
213nm固态Nd:YAG激光；>4，5mJ/脉冲激光能量
>5000万次激光寿命
15 J/cm2 @ 200pm 斑点
5ns的脉冲宽度
2% 能量稳定性
0，16pm的X-Y轴步进分辩率
配套真正的计算机系统

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